第二百七十八章 “华夏”芯片立项！

。”
在他看来，哪怕其他光源不能使用，只要13.5纳米的极紫外光能用就行了。
因为有多重曝光技术，13.5纳米波长的极紫外光，理论光刻极限是3纳米的芯片。
但光刻3纳米芯片，需要四块光掩膜版配合，光刻步骤和成本太大了，7纳米只需要一次，各方面的性价比都是最高的。
然而。
高正谦不这样想。
只见他双手放在桌面，表情严肃道：“既然13.5纳米的极紫外光已经验证成功，那7纳米、5纳米，甚至是3纳米的极紫外光肯定也**不离十，我建议是要么上5纳米，要么就是3纳米拉满。”
“这个是狼人。”
顾仁心中喃喃自语。
其他首席也被这番话惊到，3纳米拉满这句话太可怕，这已经是要挑战晶体管极限了。
因为纳米等级越小，栅极就会越小，一旦栅极过小，就会发现漏电的情况。
而芯片的计算，其实就是0和1，一旦某个栅极漏电出错，计算的数据就会不同。
根据世界半导体联盟发布的期刊内容，它们认为晶体管最小纳米是3纳米，一旦超过3纳米，也就是3纳米以下，就有可能出现隧穿效应，导致漏电的情况发生。
“有把握吗？”
陈星尊重高正谦的选择。
他也相信，林天的光刻工厂是可以制造3纳米芯片的，因为这两人从来没有让他失望过。
“100%！”
高正谦嘴角带笑回应。
刚说完，他讲述道：“根据我的研究，晶体管极限可能是在2纳米，也有可能是在1纳米，但绝不可能是3纳米，设计3纳米芯片，我有100%的信心可以完成。”
“好！”
陈星重重点头，委派任务道：“既然这样，那高首席伱们团队负责3纳米芯片的研发，项目代号为华夏，六个月内，我需要见到芯片的电路设计图。”
他本想着求稳，但既然高正谦都这样说了，他也愿意承担未来可能发生的风险。
哪怕光刻工厂的3纳米极紫外光不能使用，他还有多重曝光技术，3纳米芯片是肯定能造的，只不过是成本多少的问题罢了。
“六个月，足矣。”高正谦淡淡回应，他的嘴角依旧挂着那抹标志性的笑容。
(本章完)